中国对荷兰扩大光刻机管制范围表达不满

时间:2024-09-08 12:35内容来源:联合早报 新闻归类:中国聚焦

中国商务部星期天(9月8日)指荷兰扩大对光刻机的管制范围,中国对此表示不满,并呼吁荷兰不滥用出口管制措施。

中国商务部在官网上说,荷兰在2023年半导体出口管制措施的基础上,进一步扩大对光刻机的管制范围,中国对此表示不满。

商务部指美国近年来为维护自身全球霸权,不断泛化国家安全概念,胁迫个别国家加严半导体及设备出口管制措施,严重威胁全球半导体产业链供应链稳定,严重损害相关国家和企业正当权益,中国对此坚决反对。

商务部发言人说:“荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发,尊重市场原则和契约精神,避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展,不滥用出口管制措施,切实维护中荷企业和双方共同利益,维护全球半导体产业链供应链稳定。”

荷兰星期五(6日)公布新出口管制规则,规定荷兰计算机芯片设备供应商阿斯麦(ASML)向荷兰政府而非美国政府申请出口许可证,才能将公司旧款深紫外浸没式光刻系统运往中国。新规则已在星期六(7日)生效。

据彭博社报道,阿斯麦是全球唯一一家尖端光刻机生产商,而这些尖端光刻机生产的高端芯片会用在电动汽车、军事装备等领域。荷兰已限制阿斯麦向中国出口更先进的光刻机。

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