（首尔/北京综合讯）韩国媒体报道称，一名曾在中国半导体企业工作的韩国人被指泄露了该企业相关机密，涉嫌违反中国《反间谍法》而被捕。

韩联社星期二（10月29日）引述韩国外交消息人士作出上述报道。

据报道，这名被捕的韩国人50多岁，居住在安徽省合肥市，于去年底被拘留。此案之后被移交至中国检方，他也在数月前被正式逮捕。

该名韩国人曾在中国一家半导体企业工作。中国侦查部门指他向韩国泄露了该企业的半导体相关机密。

这是首起旅华韩侨因涉嫌违反《反间谍法》而在中国被捕的案例。

此前，已有日本人在中国涉间谍罪被捕。日本共同社今年8月21日从日本政府相关人士处获悉，安斯泰来制药公司（Astellas Pharma）的一名日籍男性员工去年3月在北京被拘留，中国检察机关以间谍罪起诉了他。该日籍男子在华工作20年，曾是日本中国商会高层。

日本政府称，自中国2014年11月通过《反间谍法》后，至少有17名日本公民在中国被拘留。