（洛杉矶综合讯）两名美国高校的中国籍研究人员上周五（28日）同日被捕，其中一人涉嫌破坏证据，另一人则被指窃取机密。

这反映在中美关系持续紧张的情况下，美国政府正加强审视华裔或中国籍科研人员。同一个星期，美国司法部也曾通报逮捕一名德克萨斯农工大学华裔教授成正东，指他为美国宇航局进行研究期间，故意隐瞒与中国学术和商业机构的关系。

据美国哥伦比亚广播公司（CBS）报道，美国司法部当天发声明指加州大学洛杉矶分校一名中国籍研究员关磊（Guan Lei，音译），涉嫌破坏证据，妨碍联邦调查局的调查而被逮捕及起诉。

据悉，29岁的关磊住在加州阿尔罕布拉，于7月25日被人看见将一个坏掉的电脑硬盘弃置在公寓外的垃圾桶。关磊被禁止搭机返回中国，以及拒绝联邦调查局检查他的电脑后，FBI找回了损坏的硬盘。

相关证词称，这个硬盘“遭到不可挽回的损害，所有相关数据都被故意和强制删除。”

起诉书还称，关磊因可能将敏感的美国软件或技术资料移转到中国国防科技大学，以及不实地否认他和中国军方有关系。关磊后来承认曾经参与过军事训练，并在国防科技大学学习期间穿着军装。

除了销毁硬盘之外，关磊还被指向调查人员隐瞒数码存储设备，以及不实呈述在美国近两年期间从未与中国领馆有任何联系。

关磊已于上周五（28日）首度出庭，案件预计下个月17日续审。破坏证据的重罪，最高可判入联邦监狱20年徒刑。

同日，美国弗吉尼亚州检察官办公室也发布信息，指逮捕一名34岁的中国籍研究员胡海舟（Haizhou Hu，音译），指他未经授权或越权，从受保护的计算机上获取信息，以及窃取商业机密。

据CBS19频道报道称，他在本月25日曾试图从芝加哥某机场前往中国，但在例行检查中，被发现携带未经授权的研究代码。